l 主要功能：針對(duì)特殊工藝條件下的不同催化劑，以及相同催化劑不同條件下各個(gè)環(huán)節(jié)進(jìn)行可行性評(píng)估、參數(shù)探究、異常排查等。

l 系統(tǒng)組成：包括配氣系統(tǒng)、反應(yīng)系統(tǒng)、冷卻分離系統(tǒng)和檢測(cè)控制系統(tǒng)組成。

l 配氣系統(tǒng)，包括檢測(cè)儀表、流量控制器、控制旁路和配套閥件，流量控制器精度：±0.5%FS。

l 反應(yīng)系統(tǒng)，包括檢測(cè)儀表、反應(yīng)器、反應(yīng)爐和配套閥件。

l 反應(yīng)壓力：10MPa

l 設(shè)計(jì)壓力：15MPa

l 催化劑裝填量：0.1~10g

l 反應(yīng)器形式：固定床反應(yīng)器

l 反應(yīng)器材質(zhì)：C276

l 反應(yīng)溫度：700℃

l 設(shè)計(jì)溫度：900℃

l 恒溫段長(zhǎng)度：≥150mm

l 恒溫段均溫性偏差：≤±1℃

l 反應(yīng)爐設(shè)置防燙層，超溫保護(hù)，運(yùn)行過(guò)程中誤觸爐門開(kāi)啟，自動(dòng)斷電保護(hù)。

l 冷卻分離系統(tǒng)包括換熱器、分離罐、自動(dòng)液位調(diào)節(jié)和定壓外排。

l 反應(yīng)壓力自動(dòng)調(diào)節(jié)控制，壓力控制精度：±0.1MPa

l 反應(yīng)溫度自動(dòng)調(diào)節(jié)控制，溫度控制精度：±1℃

l 主要的操作、控制全部在電腦上實(shí)現(xiàn)：溫度、壓力、氣體流量、液位高度等，并具有聯(lián)鎖報(bào)警保護(hù)功能。

l 結(jié)構(gòu)化催化劑MRSC觸屏控制系統(tǒng)操作界面設(shè)有啟動(dòng)、停車等控制功能按鈕，界面有流程畫面顯示、主要控制參數(shù)顯示、歷史趨勢(shì)顯示、聲光報(bào)警等功能，操作人員可通過(guò)操作界面進(jìn)行設(shè)置修改。

l 結(jié)構(gòu)化催化劑控制系統(tǒng)對(duì)溫度、壓力、流量、液位高度等運(yùn)行參數(shù)進(jìn)行實(shí)時(shí)數(shù)據(jù)采集，并自動(dòng)存儲(chǔ)至計(jì)算機(jī)硬盤；可以設(shè)置時(shí)間間隔、采集參數(shù)等信息自動(dòng)形成數(shù)據(jù)報(bào)表，報(bào)表文件可以EXCEL，CSV形式輸出，名稱按預(yù)先設(shè)定的規(guī)則自動(dòng)生成；可以提供事后數(shù)據(jù)查詢、分類、整理、統(tǒng)計(jì)等功能。

l 對(duì)結(jié)構(gòu)化催化劑裝置實(shí)時(shí)采集的數(shù)據(jù)，能夠進(jìn)行數(shù)據(jù)自動(dòng)存儲(chǔ)、自動(dòng)打印，可顯示帶實(shí)時(shí)狀態(tài)數(shù)據(jù)的工藝流程圖及實(shí)時(shí)趨勢(shì)圖、歷史趨勢(shì)圖。

l 結(jié)構(gòu)化催化劑裝置所有設(shè)備、儀器、配電柜、儀表柜等統(tǒng)一集成在一個(gè)框架上，框架尺寸需要滿足溢流防護(hù)箱內(nèi)使用，可拆御，便于組裝和運(yùn)輸。裝置設(shè)備布局合理、管線橫平豎直，電氣、儀表軟線走線槽，熱電偶配備固定插座和插頭，所有設(shè)備、儀表、工藝元器件在現(xiàn)場(chǎng)均要有位號(hào)標(biāo)識(shí)，配電柜內(nèi)各電氣元件、模塊均有相對(duì)應(yīng)裝置控制點(diǎn)的位號(hào)標(biāo)識(shí)。